Analisis keperluan prestasi bagisasaran titaniumdalam industri yang berbeza
Gmail:alisa@jmyunti.com
I. Keperluan prestasi asas sasaran titanium
① Ketulenan: Sebagai salah satu penunjuk prestasi utama bahan sasaran, ketulenan mempunyai impak penting pada prestasi filem nipis. Dalam aplikasi praktikal, keperluan untuk ketulenan sasaran berbeza dari industri ke industri. Sebagai contoh, dalam industri mikroelektronik, dengan peningkatan berterusan dalam saiz wafer silikon dan penurunan berterusan dalam lebar pendawaian, keperluan untuk ketulenan sasaran juga meningkat. Pada masa lalu, 99.995% ketulenan sasaran boleh memenuhi keperluan proses 0.35um IC, tetapi kini penyediaan 0.18um baris memerlukan ketulenan sasaran untuk mencapai 99.999% atau 99.9999%.
② Kandungan kekotoran: Kekotoran dalam pepejal sasaran dan oksigen dan wap air dalam liang-liang adalah punca utama pencemaran bagi filem termendap. Oleh itu, sasaran untuk tujuan yang berbeza mempunyai keperluan yang berbeza untuk kandungan kekotoran. Sebagai contoh, sasaran aloi aluminium dan aluminium tulen yang digunakan dalam industri semikonduktor mempunyai keperluan khas untuk kandungan logam alkali dan kandungan unsur radioaktif.
③ Ketumpatan: Untuk mengurangkan pori-pori dalam pepejal sasaran dan meningkatkan prestasi filem terpercik, sasaran biasanya dikehendaki mempunyai ketumpatan yang lebih tinggi. Ketumpatan bahan sasaran bukan sahaja mempengaruhi kadar sputtering, tetapi juga mempengaruhi sifat elektrik dan optik filem. Di samping itu, meningkatkan ketumpatan dan kekuatan bahan sasaran juga boleh menjadikannya lebih baik menahan tekanan haba semasa proses sputtering. Oleh itu, ketumpatan juga merupakan salah satu petunjuk prestasi utama bahan sasaran.
④ Saiz butiran dan taburan saiz butiran: Bahan sasaran biasanya struktur polihablur, dan saiz butiran boleh berjulat dari mikron hingga milimeter. Untuk bahan sasaran yang sama, kadar sputtering sasaran dengan butiran halus biasanya lebih cepat daripada sasaran dengan butiran kasar; dan taburan ketebalan filem yang didepositkan oleh sputtering sasaran dengan perbezaan kecil dalam saiz butiran (taburan seragam) adalah lebih seragam.
2. Keperluan ketulenan untuk sasaran titanium dalam industri yang berbeza
① Sasaran titanium yang digunakan dalam litar bersepadu: Litar bersepadu mempunyai keperluan ketulenan yang sangat tinggi untuk sasaran titanium, biasanya lebih daripada 99.995% untuk memastikan prestasi dan kestabilan filem.
② Sasaran titanium yang digunakan dalam paparan panel rata: Paparan panel rata termasuk paparan kristal cecair, paparan plasma, paparan elektroluminescent dan paparan pelepasan medan. Paparan ini sering menggunakan teknologi salutan sputtering untuk mendepositkan filem nipis semasa proses pembuatan. Antaranya, sasaran titanium, sebagai salah satu sasaran sputtering yang penting, biasanya perlu mempunyai ketulenan lebih daripada 99.9%. Selain itu, sasaran titanium juga boleh digunakan secara meluas dalam bidang berteknologi tinggi seperti elektronik, industri maklumat, hiasan rumah, dan pembuatan kaca automotif. Dalam industri ini, sasaran titanium digunakan terutamanya untuk salutan litar bersepadu, paparan panel rata, atau sebagai hiasan dan salutan kaca. Dengan mengoptimumkan prestasi dan ketulenan sasaran titanium, keperluan industri yang berbeza untuk prestasi dan kestabilan filem dapat dipenuhi.
Syarikat: Baoji Dynamic Trading Co., Ltd
Negara:China
Tambah: Jalan Baoti, Jintai, bandar Baoji, Shaanxi, China
Cel:{0}(WHATSAPP)/18391894207
Gmail:alisa@jmyunti.com
laman web: www.jm-titanium.com
